四氟化碳CF4
名稱(chēng) | 分子式 | 純度 | 規(guī)格 | 閥門(mén) | 充裝量 |
四氟化碳 | CF4 | ≥99.999% | 47L | Diss716/CGA580 | 32Kg |
產(chǎn)品名稱(chēng): 四氟化碳|四氟甲烷|CF4
其他名稱(chēng): 四氟甲烷、R14、tetrafluoromethane、carbon tetrafluoride
分子式: CF4
UN No. UN1956
CAS No. 75-73-0
產(chǎn)品純度:99.99~99.9999%
包裝說(shuō)明: 43L DOT鋼瓶，鋼瓶尺寸23 × 130cm，316L SS材質(zhì)閥門(mén)，閥門(mén)型號(hào)CGA660
產(chǎn)品說(shuō)明: 四氟化碳在常溫常壓下為無(wú)色無(wú)臭有輕微醚味的氣體�？諝庵胁蝗紵�，是比較穩(wěn)定的無(wú)毒物質(zhì)。但是在高溫時(shí)，或與可燃?xì)怏w一同燃燒時(shí)，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能與二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，101.325kPa時(shí)，水中溶解度為0.0015%(重量)。有輕微的水解作用。
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。
四氟化碳用途
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。
1：在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、
泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。
2：可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對(duì)于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時(shí)很有用。
3：由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
4.：四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實(shí)驗(yàn)代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險(xiǎn)。
注意事項(xiàng): 不燃性壓縮氣體。儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)倉(cāng)間內(nèi)。倉(cāng)內(nèi)溫度不宜超過(guò)30℃。遠(yuǎn)離火種、熱源。防止陽(yáng)光直射。應(yīng)與易燃或可燃物分開(kāi)存放。驗(yàn)收時(shí)要注意品名，注意驗(yàn)瓶日期，先進(jìn)倉(cāng)的先發(fā)用。搬運(yùn)時(shí)輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。泄漏時(shí)，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進(jìn)行隔離，嚴(yán)格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴(kuò)散。如有可能，即時(shí)使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗(yàn)后再用。四氟化碳一般認(rèn)為是惰性低毒物質(zhì)，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。 四氟化碳為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀�？梢杂镁鬯姆蚁h(huán)氧樹(shù)脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷兀兴涂諝鈺r(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用，但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。
四氟化碳的物理化學(xué)性質(zhì)
分子量：88.005
熔點(diǎn)(101.325kPa)： -186.8℃
沸點(diǎn)(101.325kPa)： -128.0℃
液體密度(-127.94℃，101.325kPa)：1603kg/m3
氣體密度(0℃，101.325kPa)： 3.946 kg/m3
相對(duì)密度(氣體，0℃，101.325kPa)： 3.05
氣液容積比(15℃，100kPa)：436 L/L
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.2747m3/kg
臨界溫度： -45.6℃
臨界壓力： 3739kPa
臨界密度： 629kg/m3
壓縮系數(shù)：
溫度℃
| 壓縮系數(shù) |
100kPa | 1000kPa | 5000kPa | 10000kPa |
1 5 | 0.9981 | 0.9763 | 0.7832 | 0.6058 |
50 | 0.9988 | 0.9866 | 0.8717 | 0.7637 |
熔化熱(-186.8℃)： 7.609 kJ/kg
氣化熱(-127.94℃，101.325kPa)： 135.65 kJ/kg
比熱容(氣體，25℃，101.325kPa)：Cp=696 J/(kg·K)
Cv=602J/(kg·K)
比熱比(氣體，25℃，101.325kPa)：Cp/Cv=1.157
蒸氣壓(-180.65 C)：0.20 kPa
(-120℃)： 165 kPa
(-50℃)： 3220 kPa
粘度(101.325kPa，0℃，氣體)：0.0161 mPa·S
(-60.0℃，液體)：0.170 mPa·S
表面張力(-80.0℃)： 6.4 mN/m
導(dǎo)熱系數(shù)(101.325kPa，0℃)：0.01503 w/(m·K)
(液體，-60.0℃)：0.07196 w/(m·K)
折射率(-73℃)： 1.151
四氟化碳在常溫常壓下為無(wú)色無(wú)臭有輕微醚味的氣體�？諝庵胁蝗紵潜容^穩(wěn)定的無(wú)毒物質(zhì)。但是在高溫時(shí)，或與可燃?xì)怏w一同燃燒時(shí)，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能與二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，101.325kPa時(shí)，水中溶解度為0.0015%(重量)。有輕微的水解作用。
四氟化碳制備方法：
1.由碳與氟反應(yīng)，或一氧化碳與氟反應(yīng)，或碳化硅與氟反應(yīng)，或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng)，或二氟二氯甲烷與氟化氫反 應(yīng)，或四氯化碳與氟化銀反應(yīng)，或四氯化碳與氟化氫反應(yīng)，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進(jìn)行，反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、 堿洗除去酸性氣體，再通過(guò)冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經(jīng)精餾而得成品。
2.預(yù)先稱(chēng)取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質(zhì)硅粉，置于鎳盤(pán)中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤(pán)放入蒙乃爾 合金反應(yīng)管中，向反應(yīng)管內(nèi)通入氟氣，氟氣先和單質(zhì)硅反應(yīng)，反應(yīng)放熱后，氟開(kāi)始和碳化硅進(jìn)行反應(yīng)，通入等體積的干燥氮?dú)庖韵♂尫鷼猓狗磻?yīng)繼續(xù)進(jìn)行，生成氣 體通過(guò)液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過(guò)裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過(guò)硅膠和五氧化二磷干燥塔得到最終產(chǎn)品。
3.以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。在裝有活性炭的反應(yīng)爐中，緩緩?fù)ㄈ敫邼夥鷼猓⑼ㄟ^(guò)加熱器加熱、供氟速率和 反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。產(chǎn)品經(jīng)除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質(zhì)、再經(jīng)脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進(jìn) 行間歇粗餾，通過(guò)控制精餾溫度，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。
詳情可致電何經(jīng)理：13927730509
